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HITACHI X射线荧光分析仪 EA1400

EA1400 采用全新硅漂移探测器（SDD）提高分析镉和铅等RoHS物质的准确度和速度，可辨别矿渣（硅、钙、铝和镁）、聚合物、矿物、化学品和其他材料中的主要成分，为了加快和简化生产环境中的RoHS检测，允许客户随指令变化更新物质控制标准。

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ULVAC-PHI 扫描聚焦X射线光电子能谱仪PHI Quantera II

基于PHI公司专利技术的扫描聚焦X射线源，最新一代技术可对从最小7.5um到最大1.4mm的分析区域获得高灵敏度的分析结果。设备采用全自动化分析，可以轻松地对绝缘样品和半导体等样品达到自动中和效果。

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日本平沼测汞仪 HG-400/450 系列

通过更改与起泡器、反应容器和流路相关的设置，可以处理四种类型的测试溶液体积，配备气泵总运行时间，汞吸收柱总使用时间等丰富的维护支持。

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